以超临界流体技术,为 MLCC 与半导体器件
带来更高可靠性、更低缺陷率。
核心技术
利用超临界流体兼具气体的渗透性与液体的溶解力, 在低温下深入材料微观结构,完成清洁、修复与改性,且无残留。
应用领域
从被动元件到半导体,超临界后处理已在多个环节展现潜力。
以超临界流体在低温下完成半导体器件的缺陷修复与表面钝化,降低损伤风险,提升良率与可靠性,适配先进制程需求。
针对成品 MLCC 进行超临界后处理,改善内部缺陷与界面,提升耐压与寿命可靠性。
对陶瓷粉体进行表面改性与清洁,提升分散性与一致性,为高端介质材料打基础。
首席科学家
北京大学(深圳研究生院)信息工程学院 长聘副教授 · 博士生导师
师从世界半导体器件物理泰斗、浮栅存储器发明人施敏院士,于国立中山大学获博士学位。长期深耕半导体器件与材料前沿,是洁元超芯超临界技术的核心奠基者。
技术核心
深圳技术大学 集成电路与光电芯片学院 助理教授
复旦大学理学博士,深耕光电半导体器件与超临界流体技术,兼具北京大学科研与 Cadence 产业研发经历。
关于洁元超芯
洁元超芯专注于超临界流体后处理技术的产业化,
服务于 MLCC、陶瓷粉体与半导体等高可靠性场景。
(公司简介为占位文案,待您提供正式介绍)
期待与您探讨合作可能。